Abubakar, D. Investigation on the structural and optical properties of NiO nanoflakes. Chemical bath deposition of Ni(OH)[[d]]2[[/d]] thin films / D. Abubakar // Український фізичний журнал. - 2017. - Т. 62, № 11. - P. 964-971 : рис. 4, табл. 2. - Бібліогр.: с. 970-971 (25 назв). - В ОБЛ. БІБЛІОТЕЦІ
Физика Будова матерії Строение материи Кл.слова (ненормовані): annealing temperature -- температура відпалу -- температура отжига -- nanoflakes -- нанолусочки -- thin films -- тонкие пленки -- тонкі плівки -- chemical bath deposition -- метод хімічного осадження -- метод химического осаждения -- nickel oxide -- оксид нікелю -- оксид никеля Анотація: Методом хімічного осадження вирощені пористі нанолусочки окису нікелю NiO. На підкладці оксид індію-олова/скло отримані тонкі плівки і піддані відпалу при змінній температурі в печі. Вивчено та проаналізовано їх структуру, оптичні властивості і морфологію поверхні. Методом емісійної растрової електронної мікроскопії показано присутність нанолусочок у структурі NiO/Ni(OH)[[d]]2[[/d]] тонких плівок. Розміри нанолусочок збільшуються з ростом температури відпалу. Знайдено, що найбільшу площу поверхні має зразок, вирощений при 300 [[p]]о[[/p]]С. Результати енергодисперсійної спектроскопії показують нестехіометрію атомного відношення зразка, що відповідає р-типу NiO тонкої плівки. Методом атомної силової спектроскопії знайдено, що зразок, вирощений при 300 [[p]]о[[/p]]С, має найбільшу шорсткість (47,9 нм). Рентгеноструктурний аналіз показує, що NiO нанолусочки мають кубічну структуру з піками орієнтації (111), (200), і (220). Це особливо чітко проявляється при 300 [[p]]о[[/p]]С. Рентгеноструктурний аналіз також показує відсутність NiO/Ni(OH)[[d]]2[[/d]] піка при відпалі. Вимірювання в ультрафіолеті і видимому світі дають малу ширину забороненої зони 3,80 еВ для 300[[p]]о[[/p]]С через високу кристалічність. Ця температура оптимальна для синтезу NiO нанолусочок високої якості, що важливо для їх застосування в сенсорах. Перейти к внешнему ресурсу: \\new\textlok\Укр_фізич_журн_2017_11\7.pdf Дод.точки доступу: Mahmoud, N.; Mahmud, Sh. |