Головна
Авторизація
Прізвище
№ читательского билета
 

Бази даних


Статті, доповіді, тези- результати пошуку

Вид пошуку

Зона пошуку
Формат представлення знайдених документів:
повний інформаційнийкороткий
Пошуковий запит: <.>K=холодная эмиссия электронов<.>
Загальна кількість знайдених документів : 1
1.

Форма документа : Стаття із журналу
Шифр видання :
Автор(и) : Находкін М. Г., Федорченко М. І.
Назва : Фотоелектронна емісія катода Si-Gd-O
Місце публікування : Український фізичний журнал: науковий журнал/ Національна академія наук України, Інститут теоретичної фізики ім. М. М. Боголюбова НАН України. - К., 2016. - Т. 61, № 3. - С. 259-265: рис. (Шифр У7/2016/61/3)
Примітки : Бібліогр.: с. 265 (23 назви). - В ОБЛ. БІБЛІОТЕЦІ
УДК : 53 + 539.21:535
Предметні рубрики: Фізика
Физика
Оптические свойства твердых тел
Оптичні властивості твердих тіл
Ключові слова (''Вільн.індекс.''): адсорбція--gd--o--si(100)--окислення--gd[[d]]2[[/d]] o[[d]]3[[/d]]--емісія електронів--робота виходу електронів--автоелектронна емісія електронів--електростатична емісія електронів--холодна емісія електронів--эмиссия электронов--автоэлектронная эмиссия электронов--электростатическая эмиссия электронов--холодная эмиссия электронов--поверхні напівпровідників--дифракція повільних електронів--адсорбция--окисление--работа выхода электрона--поверхности полупроводников--дифракция медленных электронов
Анотація: Методами фотоелектронної (hv = 1,9-10,2 eВ) та оже-електронної спектроскопій досліджено зміни електронних та емісійних властивостей фотокатода на основі багатошарової структури окислених атомів Gd на підкладці із Si(100) після напилення на його поверхню додаткових шарів атомів Gd та з часом перебування цієї структури в вакуумі. Було встановлено, що незважаючи на те, що робота виходу фотокатода на окремих етапах досліджень становила ?0,5 еВ, фотоемісія реєструвалась лише для hv ? 2,8 eВ. Аналіз отриманих результатів досліджень дозволив запропонувати модель імовірної енергетичної структури фотокатода, яка узгоджується з експериментальними даними. У відповідності з цією моделлю приповерхнева область фотокатода складається із Gd[[d]]2[[/d]] O[[d]]3[[/d]] товщиною ?1 нм і шириною забороненої зони ?5,3 еВ. Відстань від рівня Фермі до дна зони провідності в об'ємній частині Gd[[d]]2[[/d]] O[[d]]3[[/d]] дорівнює ?2,7 еВ. В забороненій зоні нижче рівня Фермі розташовані об'ємні локалізовані стани та заповнені поверхневі стани, зумовлені дефектами структури. На поверхні утворюється складний дипольний шар, відповідальний за зменшення роботи виходу.
Знайти схожі

 
© Міжнародна Асоціація користувачів і розробників електронних бібліотек і нових інформаційних технологій
(Асоціація ЕБНІТ)