Форма документа : Стаття із журналу Шифр видання : Автор(и) : Thongpan W., Kumpika T., Kantarak E., Panthawan A., Pooseekheaw P., Singjai P., Thongsuwan W., Tuantranont A. Назва : External-electric-field-enhanced uniformity and deposition rate of a TiO[[d]]2[[/d]] film prepared by the sparking process Місце публікування : Український фізичний журнал. - Київ, 2018. - Т. 63, № 6. - С. . 530-536: рис. 6, табл. 1 Примітки : Бібліогр.: с. 535-536 (39 назв). - В ОБЛ. БІБЛІОТЕЦІ УДК : 539 Предметні рубрики: Фізика Физика Будова матерії Строение материи Ключові слова (''Вільн.індекс.''): tio[[d]]2[[/d]] film--плівки tio[[d]]2[[/d]]--пленки tio[[d]]2[[/d]]--sparking process--іскровий розряд--искровой разряд--external electric fields--зовнішнє електричне поле--внешнее электрическое поле--nanoparticles--наночастинки--наночастицы--sparking aparatus--іскровий апарат--искровой аппарат Анотація: Зовнішнє електричне поле застосовано для збільшення однорідності і швидкості утворення плівок TiO[[d]]2[[/d]]. Експеримент виконано іскровим розрядом з Ti дротів при сталій напрузі 1 кВ (поле Е[[d]]int[[/d]] = 10 кВ/см) і невеликому струмі 3 мА. Система іскрового розряду перебувала в зовнішніх електричних полях (Е[[d]]ext[[/d]]) 3, 6, і 9 кВ/см від 1 до 5 годин. Морфологія тільки що приготовлених плівок визначалася методом растрової електронної мікроскопії. Показано, що плівки формуються тільки в області дії зовнішнього електричного поля. У зовнішньому електричному полі 9 кВ/см швидкість утворення плівок збільшилася з 40,7% до 77, 8%. Досліджено і описано дію зовнішнього електричного поля на швидкість утворення і однорідність плівок. Дод.точки доступу: Thongpan, W.; Kumpika, T.; Kantarak, E.; Panthawan, A.; Pooseekheaw, P.; Singjai, P.; Thongsuwan, W.; Tuantranont, A.