Форма документа : Стаття із журналу Шифр видання : Автор(и) : Hladkovskiy V. V., Fedorovich O. A. Назва : Spectroscopic studies of RF discharge plasma at plasma-chemical etching of gallium nitride epitaxial structures Місце публікування : Український фізичний журнал: науковий журнал/ Національна академія наук України, Інститут теоретичної фізики ім. М. М. Боголюбова НАН України. - К., 2017. - Т. 62, № 3. - С. . 206-211: рис. 4 Примітки : Бібліогр.: с. 210-211 (18 назв). - В ОБЛ. БІБЛІОТЕКІ УДК : 533.9 Предметні рубрики: Фізика Физика Фізика плазми Физика плазмы Ключові слова (''Вільн.індекс.''): bias voltage--plasma-chemical etching--sputtering--plasma-chemical reactor--radio-frequency discharge--optical spectroscopy--напруга зміщення--напряжение смещения--плазмохімічне травлення--плазмохимическое поедание--розпилення--распыление--плазмохімічний реактор--плазмохимический реактор--раідочастотний розряд--радиочастотные разряды--оптична спектроскопія--оптическая спектроскопия Анотація: Приведено результати експериментальних досліджень впливу напруги зміщення на еволюцію спектрів випромінювання плазми при травленні нітриду галію в плазмохімчному реакторі (ПХР) з керованими магнітними полями. При значеннях напруги зміщення більших за -250 В на спектрах випромінювання плазми з'являються лінії, що належать збудженим атомам матеріалів, з яких виготовлений робочий електрод. Під впливом від'ємного потенціалу проходить розпилення активного електрода і переосадження іонів металу на поверхню зразка, який обробляється, що приводить до зменшення швидкості травлення. Дод.точки доступу: Fedorovich, O. A. |